型号 | 名称 | 类型 | PH | 比重 (20℃,g/cm3) |
沸点 (℃) |
产品特点 |
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EC6000 | 阻燃清洗剂 | 溶剂 | 7 | 1.05±0.05 | >100 | 水基产品,气味小,对金属无腐蚀性,不含破坏臭氧层物质。 |
ER6000 | 离型剂 | 溶剂 | 7 | NA | NA | 高固含的水溶性离型剂,不含任何溶剂。有效吸附各种颗粒,使用后可水洗性好。 |
EC3009 | 划片液 | 水性 | 7 | 1.030±0.010 | NA | 由多种进口表面活性、缓蚀剂及其它助剂配制而成的浓缩型划片液。 |
EC7006 | 镭射保护液 | 水性 | 7 | 1.096±0.010 | NA | 配合研发生产定制半导体芯片、光伏产业、TFT液晶显示、金属、玻璃,蓝宝石,陶瓷,PC复合板制程所需各类化工产品,方案定制提供配套技术及工艺支持,OEM和ODM技术服务商。 |
ET-106 | 负胶显影液 | 溶剂 | NA | NA | NA | 溶剂型显影液,高纯有机溶剂调配。 |
ET-238 | 正胶显影液 | 水性 | NA | NA | NA | 无色的有机碱性水溶液,有特殊臭味,有腐蚀性。 |
EC3000 | 边胶清洗剂 | 溶剂 | 7 | 0.920±0.010 | NA | 无色透明易挥发液体,易燃,有酯的香味,不溶于水。 |
EC2030 | 去蜡液 | 溶剂 | 7 | 0.845±0.010 | NA | 采用独特的溶蜡剂、渗透剂、助溶剂、防腐剂等优质表面活性剂,经科学方法配制而成。具有除蜡快速彻底、润湿渗透能力强、配比浓度低、持效时间长、防蚀效果优异,使抛光表面光亮无斑及水洗性好等特点。 |
ET1000 | 氧化铝抛光液 | 水性 | 7 | 1.02±0.010 | >100 | 本产品属于纳米高纯阿尔法氧化铝抛光粉,晶相稳定、硬度高,有调制好的抛光液可以直接使用,客户也可以按自己的配方调配。 |
EF6050 | 6um抛光液 | 水性/油性 | 7 | 0.990±0.010 | >120 | 多晶金刚石具有自锐性和韧性,在抛光过程中,粗颗粒会破碎成更小的颗粒,可避免对工件表面造成划伤,而新的裂面具有更多锋利的切削棱,既保证了工件表面质量,又提高了研磨切削效率,在某些高质量要求的产品加工过程中显示出它独特的优越性。 |
AR级 EL级 MOS级 RM-A级 | 丙酮/盐酸/硝酸/硫酸/磷酸/双氧水/无水乙醇/异丙醇 | NA | NA | NA | 无水乙醇-EL级 丙酮-MOS级 异丙醇-RM-B级 磷酸-EL级 盐酸-EL级 硫酸-MOS级 双氧水-RM-A级 |